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Hakuto离子蚀刻机20IBE-J应用于硬盘 GMR 磁头

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更新: 2020-12-31
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公司基本资料信息
 
 
 硬盘磁头, 是硬盘读取数据的关键部件, 磁头的好坏在很大程度上决定着硬盘盘片的存储密度.

 

GMR 磁头的使用了磁阻效应更好的材料和多层薄膜结构, 这比以前的传统磁头和MR(Magneto Resisive)磁阻磁头更为敏感, 相对的磁场变化能引起来大的电阻值变化, 从而实现更高的存储密度.

某硬盘磁头制造商采用伯东 Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 应用于硬盘磁头镀制GMR磁头导电材料和磁性材料薄膜构.

 

Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 技术参数

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离子蚀刻

Φ4 inch X 12片

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基片尺寸

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Φ4 inch X 12片

Φ5 inch X 10片

Φ6 inch X 8片

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均匀性

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±5%

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硅片刻蚀率

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20 nm/min

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样品台

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直接冷却,水冷

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离子源

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Φ20cm 考夫曼离子源

 

Hakuto 离子刻蚀机 20IBE-J 的核心构件离子源采用的是伯东公司代理美国 考夫曼博士创立的 KRI考夫曼公司的射频离子源 RFICP220

 

 

Hakuto 离子刻蚀机 20IBE-J 的样品台可以 0-90 度旋转, 实现晶圆反应面均匀地接受离子的轰击, 进而实现提高晶圆的加工质量.

 

若您需要进一步的了解详细产品信息或讨论 , 请参考以下联络方式 :

上海伯东 : 罗先生                               台湾伯东 : 王小姐
T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958
ec@hakuto-vacuum.cn                      ec@hakuto.com.tw
www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw

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